光切法顯微鏡

簡要描述：9J光切法顯微鏡具有相同頻率及振動方向和恒定相位差的光線，在空間疊加會發(fā)生干涉現(xiàn)象，這就是光波的干涉原理。利用光波的干涉原理和顯微鏡非接觸檢測特點對試樣表面上高度極微小差別進行測量。

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品牌	上海測維	價格區(qū)間	面議
產地類別	國產	應用領域	化工,冶金,航天,汽車,綜合

9J光切法顯微鏡依據(jù)所測光潔度▽3-▽9/0.8-80um為光切法顯微鏡，▽10-▽14/1-0.03um為干涉顯微鏡。用于測量零件表面刻線，鍍層深度等，配以特殊的附件還能測量顆粒加工紋路面，低反射率的工件表面，可將儀器倒置在工件上

9J光切法顯微鏡主要技術規(guī)格：

1、測量表面光潔度范圍：▽3-▽9(相當不平度0.8-80um)

2、表面光潔度（級別）：9、8-7、6-5、4-3

3、所需物鏡：60倍N.A.0.55、30倍N.A.0.40、14倍N.A.0.20、7倍N.A.0.12

4、總放大倍數(shù)：510X、260X、120X、60X

5、物鏡組件工作距離(mm):0.04、0.2、2.5、9.5

6、視場（mm）:0.3、0.6、1.3、2.5

7、不平寬度：用測微目鏡：0.7微米~2.5毫米，用座標工作臺：（0.01~13）毫米

8、儀器重量約： 23公斤

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